ЛПЦВД (Лов Прессуре Цхемицал Вапор Депоситион) је основна полупроводничка процесна технологија. Ево како то функционише: под условима ниског-притиска, гасовита једињења се загревају да би покренула реакције, остављајући стабилне чврсте танке филмове на површинама супстрата. Углавном се користи за кључне филмове као што су силицијум нитрид, силицијум оксид и поликристални силицијум-савршени за потребе основних процеса интегрисаних кола, оптоелектронских уређаја и сличних области.
Нице-Тецх је независно развио два ЛПЦВД модела: хоризонтални и вертикални. Оба се истичу по високо-прецизној контроли температуре и врхунској-уједначености филма, покривајући све, од верификације истраживања и развоја до-производње великих размера. Хоризонтални модел је одличан за 8-и мање плочице-он се глатко пребацује између оксидације, дифузије, жарења и других процеса, што га чини идеалним за серијску производњу и проверу процеса. Вертикални, са својим модуларним дизајном и аутоматизованом интеграцијом, рукује плочицама од 6-12 инча. Боље се уклапа за интелигентне производне линије којима је потребно ефикасно таложење. Заједно, они нуде стабилна, поуздана решења за таложење под ниским притиском за производњу полупроводника - без компликованог подешавања, само доследне перформансе када је то важно.
И. Кључне тачке избора
1. Величина плочице: Хоризонтални ЛПЦВД ради са 8-инчним и мањим плочицама. Вертикални ЛПЦВД покрива шири опсег (6-12 инча), тако да је погодан-за масовну производњу великих плочица.
2. Потребе сценарија: Ако се бавите истраживањем и развојем или више-верификацијом процеса, Хоризонтал ЛПЦВД је ваша најбоља опција-његова лака промена процеса (оксидација, дифузија, жарење, итд.) савршено одговара тим потребама. За масовну{5}}производњу великих размера или интеграцију са интелигентним производним линијама, Вертикални ЛПЦВД је бољи захваљујући модуларном дизајну и аутоматизацији.
3. Филмови и перформансе: Оба модела углавном таложе силицијум нитрид, силицијум оксид и поликристални силицијум. Али ако су вам потребни посебни филмови, доступна су прилагођена решења заснована на вашим специфичним захтевима процеса. Што се тиче перформанси, Хоризонтални ЛПЦВД има уједначеност мању или једнаку ±2%, док вертикални погађа мање или једнако ±3%. Оба раде између 500 степени и 800 степени, што одговара процесу хемијског таложења на ниском{8}}притиску за већину уобичајених полупроводничких танких филмова.
ИИ. Кључни сценарији апликација
1. Интегрисана кола (ИЦ): То је кључни корак у прављењу ЦМОС, ИГБТ и других чипова-који припремају оксиде капије и међуслојне диелектрике који директно утичу на перформансе чипа.
2. Оптоелектронски уређаји: За ВЦСЕЛ уређаје, он одлаже оптичке филмове који подешавају и оптичка и електрична својства како би уређаји боље функционисали.
3. Полупроводници са широким-појасним размаком: беспрекорно раде са таложењем танког-филма од силицијум карбида (СиЦ), задовољавајући потребе уређаја високе{3}}температуре.
4. Научна истраживања: Одлично за мале-серијске експерименте-без обзира да ли тестирате нове материјале попут литијум ниобата или истражујете нове процесе као што је таложење филма квантним чипом.
ИИИ. Одговарајуће групе купаца
1. Истраживачке институције и универзитети: Хоризонтални ЛПЦВД је прави пут. Његова способност да се пребаци између различитих процеса чини га супер практичним за мале-серијске истраживачке пројекте са различитим потребама.
2. Средња и мала-предузећа за полупроводнике: Хоризонтални ЛПЦВД нуди велику вредност. Довољно је флексибилан за мале-серијске истраживање и развој, а његова зрела, на тржишту-проверена структура такође подржава масовну производњу 8-инча и мањих плочица – савршено ако треба да комбинујете више процеса.
3. Велика-производна предузећа: Вертикални ЛПЦВД је обавезан. Покрива плочице од 6-12 инча и глатко се интегрише са интелигентним производним линијама, повећавајући ефикасност за производњу великих размера.
4. Оптоелектронски и широки-Произвођачи материјала са пропусним размаком: Изаберите на основу своје производне скале. Вертикални ЛПЦВД је идеалан за масовну производњу, док хоризонтални ЛПЦВД одговара фазама истраживања и развоја у којима ћете можда морати да тестирате различите параметре.
5. Кратка напомена о одржавању: оба уређаја обично треба сервисирати сваких 6 до 12 месеци-као што су чишћење шупљина и калибрација система за контролу температуре. Тачан тајминг зависи од учесталости коришћења и сложености процеса, али наш-тим после продаје шаље редовне подсетнике да би ствари биле на правом путу.
