Покривање површине супстрата као што је силицијумска плочица са високо фотоосетљивим фоторезистом, а затим зрачење површине супстрата специфичном светлошћу (обично ултраљубичасто светло, дубоко ултраљубичасто светло, екстремно ултраљубичасто светло) кроз маску која садржи информације о циљном узорку, фоторезист озрачен светлом ће реаговати. Због тога ће површина озрачена након развоја произвести различите ефекте од области која није озрачена (у зависности од својстава фоторезиста).
