Опрема за гравирање јонским снопом

Опрема за гравирање јонским снопом

Машине за гравирање јонским снопом (ИБЕ) су алатке високе{0}}прецизности за обраду направљене на бази физичке технологије гравирања јонским снопом. Основна идеја? Експлодирајте површине материјала помоћу снопова јона високе{2}}ене енергије за уклањање атома—савршено за-недеструктивну обраду чврстих-за нагризање-крхких материјала (као што су метали и керамика) и осетљивих материјала квантног чипа.
Pošalji upit
Opis

Преглед производа

 

Машине за гравирање јонским снопом (ИБЕ) су алатке високе{0}}прецизности за обраду направљене на бази физичке технологије гравирања јонским снопом. Основна идеја? Експлодирајте површине материјала са високо{2}}енергетским сноповима јона за уклањање атома-савршено за-недеструктивну обраду чврстих-за нагризање-крхких материјала (као што су метали и керамика) и осетљивих материјала квантног чипа.


Долазе са радним столом са двоструким-режимом: једноделним-комплетним са подешавањем угла од -90 степени до 90 степени, плус вишеделни-кружни ротирајући тип. Било да радите у малим-серијским лабораторијским истраживањима или масовној производњи, он се прилагођава вашим потребама. Ту је и систем за водено хлађење/хелијумско хлађење како би се плочице заштитиле од термичког оштећења – тако да прецизни уређаји као што су квантни чипови остају стабилни након обраде.


Поврх тога, енергија јонског снопа се глатко подешава од 0 до 1000 еВ. Упарите то са уједначеношћу гравирања мањом или једнаком ±3% (за подлоге од 8-инча) и можете постићи прецизну контролу над дубином гравирања и прецизношћу шаблона. То је основна радна снага процеса за истраживање и развој напредних полупроводника (силицијум карбид, 2Д материјали), производњу високо прецизних оптоелектронских уређаја и развој квантних чипова.

 

Апликације

 

1. Материјали-тешки за-урезивање: суперпроводни метали, керамика (ваздухопловство, врхунски-алати)

2. Квантни чипови: ниско-урезивање кубита/квантних тачака

 

3. Напредни полупроводници: СиЦ, ГаН, 2Д материјали (верификација истраживања и развоја)

4. Оптоелектроника: оптички комуникациони уређаји (5Г/6Г компатибилни)

5. МЕМС: структуре високог-односа{2}}(аутомобилска, ваздухопловна)

 

Предности

 

1. Мала-оштећења и висока{2}}прецизност: физичко гравирање, атомска контрола (квантни чипови)
2. Погодан за крхке материјале{1}}: суперпроводни метали, керамика, СиЦ (без подешавања)
3. Флексибилан радни сто: Дуал-режим (-90 степени ~90 степени /ротација) – истраживање и развој/масовна производња
4. Чврсто управљање топлотом: хлађење водом/хелијумом (без термичког оштећења)
5. Подесиви и конзистентни: 0-1000 еВ + Уједначеност мање или једнака ±3% (сталне серије)

 

Параметерс

 

Ставка

Специфични индикатори

Применљива величина подлоге

Мање или једнако 8 инча (8 инча и испод); неке конфигурације подржавају
подлоге Мање или једнако 6 инча

лон Беам Енерги

0-1000 еВ, подржава континуирано подешавање (0-1000 еВ,
непрекидно подесиво)

лон Беам Цуррент

Мање или једнако ±1000 мА (за РФ јонски извор); Мање или једнако ±200 мА (за Кауфман
јонски извор)

Етцхинг Униформити

Мање или једнако ±3% (на основу 8-инчне подлоге); Мање или једнако ±5% (на основу 6-
инча подлоге), метод израчунавања:(максимална вредност-
Минимална вредност)/(2кПросечна вредност)

Метода хлађења фазе подлоге

Водено хлађење / хелијумско хлађење

Ворктабле Моде

Двоструки-режим (појединачни-тип: подесив угао од -90 степени
до 90 степени; Тип више-комада: кружна ротација)

Функција позиционирања

Подржава позиционирање урезаних{0}}тачака

Применљиви материјали

Метали (суперпроводни Нб, Ал, итд.), керамика, силицијум
карбид, силицијум, дводимензионални- материјали (МоС2 итд.),
сложени полупроводници

 

ФАК

 

Која је максимална величина подлоге којом овај ИБЕ рукује?

До 8 инча-нека подешавања раде и са подлогама до 6 инча.

Колико је подесива енергија јонског снопа?

0-1000 еВ, са континуираном подршком за подешавање.

Колико режима радног стола постоји?

Два режима: једноделни-(угао се подешава од -90 степени до 90 степени) и вишеделни (кружна ротација).

Како се хлади фаза супстрата?

Водено хлађење/хелијумско хлађење{0}}чува подлоге безбедним од термичког оштећења током гравирања.

Може ли да обрађује суперпроводне материјале (као што су Нб, Ал)?

Да-такође рукује керамиком, СиЦ, 2Д материјалима (МоС₂) и сложеним полупроводницима.

Који су опсези струје зрака за различите изворе јона?

РФ јонски извор: Мањи или једнак ±1000 мА; Кауфман јонски извор: Мање или једнако ±200 мА.

Која је униформност гравирања?

Мање или једнако ±3% за подлоге од 8- инча, Мање или једнако ±5% за 6-инчне (израчунато као (Мак - Мин)/(2×Просек)).

Да ли подржава прецизно позиционирање подлоге?

Сигурно{0}}долази са зарезом{1}}позиционирањем тачке за закључавање тачности обраде.

Има ли прилагодљивих дизајна за обраду квантних чипова?

Ниско{0}}физичко нагризање и хлађење водом/хелијумом-смањују термичка оштећења и чувају својства материјала, савршено за структуре осетљиве на квантне чипове.

Може ли се пребацивати између мале{0}}серијске истраживања и развоја и масовне производње?

Апсолутно-двоструки-радни сто одговара оба: појединачни-комад за мале-серијске тестове са више углова-, више-комад за масовну производњу.

 

Popularne oznake: Опрема за гравирање јонским снопом, произвођачи опреме за гравирање са јонским снопом, добављачи

Pošalji upit